服务电话：
新闻中心
您当前的位置：首页 > 新闻中心
-
30
2026-01
星期 五
-
无锡6吋管式炉一般多少钱 赛瑞达智能电子装备供应
管式炉在金属硅化物（如TiSi₂、CoSi₂）形成中通过退火工艺促进金属与硅的固相反应，典型温度400℃-800℃，时间30-60分钟，气氛为氮气或氩气。以钴硅化物为例，先在硅表面溅射50-100nm钴膜，随后在管式炉中进行两步退
-
30
2026-01
星期 五
-
无锡6吋管式炉非掺杂POLY工艺 赛瑞达智能电子装备供应
管式炉是一种以管状炉膛为关键的热工设备，按温度范围可分为中温（600-1200℃）与高温（1200-1800℃）两大类别，加热元件根据温度需求适配电阻丝、硅碳棒或硅钼棒等材质。其典型结构包含双层炉壳、保温层、加热单元、控温系统及炉
-
30
2026-01
星期 五
-
无锡第三代半导体管式炉销售 赛瑞达智能电子装备供应
在半导体器件制造中，绝缘层的制备是关键环节，管式炉在此发挥重要作用。以PECVD（等离子体增强化学气相沉积）管式炉为例，其利用低温等离子体在衬底表面进行化学气相沉积反应。在反应腔体中，射频辉光放电产生等离子体，其中包含大量活性粒子
-
30
2026-01
星期 五
-
无锡一体化管式炉化学气相沉积 赛瑞达智能电子装备供应
管式炉在硅外延生长中通过化学气相沉积（CVD）实现单晶层的可控生长，典型工艺参数为温度1100℃-1200℃、压力100-500Torr，硅源气体（SiH₄或SiCl₄）流量50-500sccm。外延层的晶体质量受衬底预处理、气体
-
30
2026-01
星期 五
-
无锡赛瑞达管式炉怎么收费 赛瑞达智能电子装备供应
管式炉作为材料烧结与热处理领域的关键设备，其应用领域极为广阔。在科研院所中，它是材料科学家们探索新型材料性能的得力助手。例如在研发高性能陶瓷材料时，科研人员利用管式炉的高温环境，对陶瓷粉末进行烧结处理。通过精确控制炉内温度、升温速
推荐资讯